半导体生产供应用水,昆山半导体材料环保专用EDI超纯水设备

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  • 电压:231v
  • 功率:2100kw
  • 其他:按客户要求定制
  • 发布日期:2020-03-25 08:49
  • 有效期至:长期有效
  • 产品库区域:江苏无锡市
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详细说明

半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多,按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是最常用的元素半导体;化合物半导体包括-族化合物:砷化镓、磷化镓等;-族化合物:硫化镉、硫化锌等;氧化物:锰、铬、铁、铜的氧化物,以及由-族化合物和-族化合物组成的固溶体:镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外,还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。

半导体超纯水设备制备工艺

1、预处理系统反渗透系统中间水箱粗混合床精混合床纯水箱纯水泵紫外线杀菌器抛光混床精密过滤器用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理反渗透中间水箱水泵→EDI装置纯化水箱纯水泵紫外线杀菌器抛光混床→0.20.5μm精密过滤器用水点(≥18MΩ.CM)(新工艺)

3、预处理一级反渗透加药机(PH调节)→中间水箱第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱纯水泵→EDI装置紫外线杀菌器→0.20.5μm精密过滤器用水点(≥17MΩ.CM)(新工艺)

4、预处理反渗透中间水箱水泵→EDI装置纯水箱纯水泵紫外线杀菌器→0.20.5μm精密过滤器用水点(≥15MΩ.CM)(新工艺)

5、预处理系统反渗透系统中间水箱纯水泵粗混合床精混合床紫外线杀菌器精密过滤器用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

半导体生产用超纯水设备工作原理

超纯水装置供给原水进入EDI系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿膜板外侧流动,以洗去透出膜外的离子,树脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下,阴

离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动,阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外,阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外,浓缩了的离子从废水流路中排出,无离子水从树脂/膜内流出。

半导体超纯水设备的应用领域

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水;

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液;

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片;

集成电路生产中高纯水清洗硅片;

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;

高品质显像管、萤光粉生产;

汽车、家电表面抛光处理。

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。

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